设备总体概述：
主要用途：陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、排胶、cvd实验、真空退火等。
本款高温真空气氛炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和31段程序控温系统，移相触发、可控硅控制。炉膛采用高纯氧化铝纤维，外部采用碳钢防腐.采用双炉膛结构，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
真空系统采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度好。密封性好，真空保持时间长。
采用国际先进技术，自行研制开发的高性能、高节能的新型。另采用节能型的陶瓷纤维材料保温，双层结构，可将外表温度降到常温并使得内腔温度分布均匀。炉门口处设有挡火内炉门，把炉温挡住，起来隔热作用，降低了出口的温度。综合性能指标较高，处于国内领先水平。
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